ASML High NA EUV 光刻机首批组件抵达纽约州奥尔巴尼纳米技术综合体

亚汇网注意到，根据综合体监管方NYCreates（纽约研究、经济促进、技术、工程和科学中心）在社交媒体提供的照片，这一半导体制造关键设备已于当地时间昨日踏上了前往综合体的最后一程。▲图源：NYCreatesNYCreates总裁兼首席执行官DaveAnderson表示，奥尔巴尼纳米技术综合体是北美唯一的同类设施，其规模和重点与比利时imec类似。他称HighNAEUV光刻机“确实会改变我们未来的业务范围以及美国的研发活动”，“我们实际上正处于下一代技术发展的中心”。广告声明：文内含有的对外跳转链接（包括不限于超链接、二维码、口令等形式），用于传递更多信息，节省甄选时间，结果仅供参考，亚汇网所有文章均包含本声明。